Canon: la technologie de nanoimprinting devrait fabriquer des semi-conducteurs 2 nm
Canon Corporation of Japan a annoncé le 13 octobre le lancement de l'équipement de fabrication de semi-conducteurs de la FPA-1200NZ2C Nanoimprint (NIL).Le PDG de Canon, Fujio Mitarai, a déclaré que la nouvelle technologie de nanoimpring de la société ouvrira la voie à de petits fabricants de semi-conducteurs pour produire des puces avancées, et cette technologie appartient actuellement à la plus grande propriété des plus grandes entreprises de l'industrie.
En expliquant la technologie de nanoimprinting, Iwamoto Kazunori, le chef de l'activité de l'équipement de semi-conducteur de Canon, a déclaré que la technologie de nanoimprintage implique l'impression d'un masque avec un diagramme de circuit semi-conducteur sur une coiffure.En empreignant une seule fois sur une plaquette, des circuits bidimensionnels ou tridimensionnels complexes peuvent être formés dans la position appropriée.Si le masque est amélioré, même des produits avec une largeur de circuit de 2 nm peuvent être produits.Actuellement, la technologie NIL de Canon permet à la largeur de ligne minimale du modèle de correspondre à un semi-conducteur logique de nœud 5 nm.
Il est signalé que l'industrie des équipements de fabrication de puces 5 nm est dominée par l'ASML, et la méthode de nanoimpreting de Canon peut aider à réduire l'écart.
En termes de coûts d'équipement, Iwamoto et Takashi ont déclaré que les coûts des clients varient en fonction des conditions, et on estime que le coût requis pour un processus de lithographie peut parfois être réduit à la moitié de l'équipement de lithographie traditionnel.La réduction de l'échelle de l'équipement nanoimprignage facilite également l'introduction d'applications telles que la recherche et le développement.Le PDG de Canon, Fujio Mitarai, a déclaré que le prix des produits d'équipement de nanoimprintage de l'entreprise sera un chiffre inférieur à l'équipement EUV (Ultraviolet extrême) d'ASML, mais la décision finale de prix n'a pas encore été prise.
Il est rapporté que Canon a reçu de nombreuses demandes de renseignements de fabricants de semi-conducteurs, d'universités et d'instituts de recherche concernant ses clients.En tant que produit alternatif à l'équipement EUV, l'équipement de nanoimprinting est très attendu.Cet appareil peut être utilisé pour diverses applications semi-conductrices telles que la mémoire flash, le DRAM de l'ordinateur personnel et la logique.
Il est signalé que l'industrie des équipements de fabrication de puces 5 nm est dominée par l'ASML, et la méthode de nanoimpreting de Canon peut aider à réduire l'écart.
En termes de coûts d'équipement, Iwamoto et Takashi ont déclaré que les coûts des clients varient en fonction des conditions, et on estime que le coût requis pour un processus de lithographie peut parfois être réduit à la moitié de l'équipement de lithographie traditionnel.La réduction de l'échelle de l'équipement nanoimprignage facilite également l'introduction d'applications telles que la recherche et le développement.Le PDG de Canon, Fujio Mitarai, a déclaré que le prix des produits d'équipement de nanoimprintage de l'entreprise sera un chiffre inférieur à l'équipement EUV (Ultraviolet extrême) d'ASML, mais la décision finale de prix n'a pas encore été prise.
Il est rapporté que Canon a reçu de nombreuses demandes de renseignements de fabricants de semi-conducteurs, d'universités et d'instituts de recherche concernant ses clients.En tant que produit alternatif à l'équipement EUV, l'équipement de nanoimprinting est très attendu.Cet appareil peut être utilisé pour diverses applications semi-conductrices telles que la mémoire flash, le DRAM de l'ordinateur personnel et la logique.